セミナー

サーテック2024と同時開催される講演会のご案内です。

1月31日(水) 13 時00 分 ~ 16 時30 分                 →表面処理 新製品・新技術講演会プログラム(PDF)
  東京ビッグサイト 東3ホール コンセプトゾーン内 機材工講演会場
  受講費無料(登録不要)、カラーテキスト費 1,000円(税込)※販売は現金のみの取扱いです
  受講人数 70 名(オンライン配信はありません)
    
技術委員会 主催                            
『 ~聞いて良かった 知って得した~ 表面処理 新製品・新技術講演会 』   
                                           
13:00 ~ 13:10  開会挨拶

【めっき設備】
13:10 ~ 13:30  中容量インバータ電源 新型MRTシリーズ    株式会社 三社電機製作所 千本 純輝
13:30 ~ 13:50  表面処理装置のIOT化へ向けて       株式会社 中央製作所 山田 隆広
13:50 ~ 14:10  水洗槽や配管内の藻やバクテリアを除去する自吸式ろ過機のご提案 
                                 株式会社 ワールドケミカル  根本 淳

【環境設備】
14:10 ~ 14:30  インライン式排水処理装置「U-Flex」      日本フイルター株式会社  齋藤 弘樹
14:30 ~ 14:50  IoTゲートウェイを使用した遠隔監視システム   株式会社 三進製作所 矢部 勇樹

【薬  品】
14:50 ~ 15:10  合金めっきの適用による電子部品の高耐食化   キザイ株式会社 伊藤 聡史
15:10 ~ 15:30  環境対応クロムコバルトフリー黒色顔料を用いたガラスペーストの開発
                                  奥野製薬工業株式会社 小沼 太郎
15:30 ~ 15:50  抗菌・抗ウィルス表面処理TOP NOBACシリーズ 奥野製薬工業株式会社 鈴木 健太
15:50 ~ 16:10  アルミ素材への新たなめっき前処理アプローチ  メルテックス株式会社 田尻 駿介
16:10 ~ 16:30  亜鉛めっき向け光沢剤と金属表面用化学研磨剤のご紹介
                                 式会社 タイホー 池田 卓也


2月1日(木) 13 時 10 分 ~ 16 時 30 分                       →環境セミナープログラム(PDF)
  東京ビッグサイト 東3ホール コンセプトゾーン内 機材工講演会場   
  受講費無料(登録不要)
  カラーテキスト費 3,000円(税込) ※販売は現金のみの取扱いです
           ※カラーテキストには、「講演テキスト」「めっき排水処理施設の標準仕様指針改訂第6版」を含みます
  受講人数 70 名(オンライン配信はありません)
  排水処理のQ&Aに応募ください。                                       →Q&A応募用紙

環境対策委員会主催                          
『 環境にやさしい設備と薬品・排水処理技術の実務・排水処理のQ&A・海外環境規制  
                                       
13:10 ~ 13:20 開会挨拶

13:20 ~ 14:40 環境に優しい設備と薬品
  1-1 カーボンニュートラル対応の高効率電源      株式会社 三社電機製作所 千本 純輝
  1-2 各種めっき液のノンシアン化への取り組み     大和化成株式会社  山内 裕亮
  1-3 環境規制に対応したコンポジットめっき      日本化学産業株式会社  三嶋 恵太
  1-4 PTFEフリー耐摺動性めっき皮膜のご紹介     株式会社 ムラタ  折田由紀子

       ~~ 休憩 ~~

14:50 ~ 15:50 排水処理技術の実務
  2-1 亜鉛の排水処理                 日本フイルター株式会社 宮川 貴宏
  2-2 フッ素・ホウ素の排水処理            日本ワコン株式会社 清水  健
  2-3 窒素・リンの排水処理              中川化学装置株式会社 倉持 貴之

15:50 ~ 16:10 排水処理のQ&A          宮川 貴宏、清水  健、倉持 貴之          →Q&A応募用紙

16:10 ~ 16:30 海外環境規制
  3-1 中国・タイ・フィリピンの環境規制        クボタ環境エンジニアリング株式会社 曽根 佑介



2月2 日(金) 13 時 00 分 ~ 15 時 30分                         なぜなぜ講演会プログラム(PDF)
  東京ビッグサイト 東3ホール コンセプトゾーン内 機材工講演会場     
  受講費無料(登録不要)
  カラーテキスト費 2,000円(税込)
  受講人数 70 名(オンライン配信はありません)
    
青年会 主催                                
  今さら聞けない!! めっきの基礎・装置の基礎 ~なぜなぜシリーズ第17弾~  

13:00 ~ 13:05 開会挨拶

13:05 ~ 13:25 無電解めっきのなぜ   奥野製薬工業株式会社 総合技術研究部 次長 原 健二

13:30 ~ 13:50 めっき装置のなぜ   上村工業株式会社 東京支社 機械営業グループ 木村龍太郎

13:55 ~ 14:15 ポンプメンテナンスのなぜ  株式会社 ワールドケミカル 本社営業部 岩渕 崇

14:20 ~ 14:40 排水処理のなぜ  株式会社 三進製作所 生産技術本部 技術部 設計課 係長 森川 忠矩

14:45 ~ 15:25 ハルセル分析のなぜ  株式会社 山本鍍金試験器 技術開発部 部長 秋山 勝徳

15:25 ~ 15:30 閉会挨拶